|
|
|||||||||||||||||
出售韓一HVC-2700DA光學鍍膜機 電子束蒸發(fā)電鍍機 鞋標真空電鍍膜機 PVC納米鍍膜機 AR高透膜鍍膜機
一，明細介紹：
**6年 - 2018年
EB(電子槍) 1GUN.。韓一 12六
高于源 韓一。(霍爾)
機板泵 愛德華EM275
羅獲系 愛德華EM2600
深冷 韓國V-PLUS1000H
品控 XTC+2個品控
阻蒸 1個
二，鍍膜機操作步驟
打開總開關,包括冷卻水開關和機器開關。
打開鍍膜機總開關,樣品旋轉開關,升降開關按鈕。
將玻璃基板至于樣品托中,導電一面向下。
蒸鍍室、預處理室放氣。
打開蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時針方向關,逆時針方向開),推拉桿推至大真空室中,將樣品放到推拉桿上,將推拉桿拉回至預處理中。關閉閘板閥(順時關閉,逆時針開)
@13723521401
三，適用領域
以客戶滿足為主 HVC-2700DA
耐久性
P采取**設計技法 在 Chamber 及 Door 防止 Crack, 具備堅固的門
**薄膜均勻性及重復性
按照物質分蒸發(fā)特性采用可變修正板** Dome 全體的均勻性, Batch 之間質量無變.
簡便性
不熟練工作人員也會使用, 可以按使用者的要求來控制項目，顯示出發(fā)生故障時 原因及解決方案.
提供工藝管理
提供 Process recipe 及 Data Logging，很容易管理工藝和質量.
大量生產對應
按照驗收標準進行徹底的驗收，交付設備反映了客戶要求事項，安裝后短時間內可以大量生產.
一，主要技術指標：
UPS射頻源，精控，單槍，光學膜厚儀監(jiān)控波長范圍：400-1100nm，波長精度：<±1nm， 配置離子源，離子流密度分布均勻; 基底**加熱溫度：300℃。 目前可淀積材料包括：SiO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O**l2O3等 蒸發(fā)速率0.**/s-20A/s， 工作真空：5E-6mbar， 氣體（Ar、O2）
五，主要功能：
主要用于可見~短波紅外波段光學增透膜、高反膜、截止濾光片，窄帶、超窄帶、極窄帶濾光片等光學薄膜蒸鍍，配備兩把電子槍和等離子體輔助源，一次可蒸鍍多片不同尺寸（1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸、8寸、40mm*40mm等）的樣品。
六，真空蒸發(fā)鍍膜原理
1.1 將膜材置于真空鍍膜室內 ， 通過蒸發(fā)源使其加熱蒸發(fā) 。 當蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片間的線尺寸后 ， 蒸發(fā)的粒子從蒸發(fā)源表面上逸出 ， 在飛向基片表面過程中很少受到其他粒子 （ 主要是殘余氣體分子）的碰撞阻礙，可直接到達基片表面上凝結而生成薄膜。
|
